電鍍設備的（de）工藝要求具體有哪些

　　電鍍設備的（de）工藝要求具體有哪些？電鍍設備的工藝要求：

　　1. 鍍層與基體金屬、鍍層與鍍層（céng）之間，應有良好的結合力。

　　2. 鍍層應結（jié）晶細（xì）致、平整、厚度均勻。

　　3. 鍍層應具有規定的厚度和盡可能少的（de）孔隙（xì）。

　　4. 鍍層應具有規定的各項指（zhǐ）標，如光亮度、硬度、導電性等。

　　5. 電鍍時間及電鍍過程（chéng）的溫度，決定鍍層厚度的大小。

　　6.環境溫度為-10℃～60℃。

　　7.輸入電壓為220V±22V或380V±38V。

　　8.水處（chù）理設備最大工作噪聲應不大於80dB(A)。

　　9.相對濕度（dù）(RH)應不大（dà）於95%。

　　10.原水COD含（hán）量為100mg/L～150000mg/L。