電鍍設備工藝要求有什（shí）麽？

1.鍍（dù）層與基體金屬、鍍層與鍍層之間，應有良好的結合力。

2.鍍層應結晶細致、平整、厚度均勻。

3.鍍層應具有規定（dìng）的厚度和盡可能少的孔隙。

4.鍍層應具有規定的（de）各項指標，如光（guāng）亮度、硬度、導電性等。

5.電（diàn）鍍時間及電鍍過程的溫度，決定鍍層厚度的大小。

6.環境溫度為-10℃~60℃。

7.輸入電壓為220V±22V或380V±38V。

8.水處理設備最大工作噪（zào）聲應不大於80dB(A)。

9.相對濕（shī）度(RH)應不大於95%。

10.原水COD含（hán）量為100mg/L~150000mg/L。