電（diàn）鍍設備的工藝技術第一節

電鍍設備的工藝技第一（yī）節

電鍍設備技術又稱為（wéi）電沉積（jī）,是在材料表麵獲得金屬鍍層的主要方法之（zhī）一。電鍍設備的工藝技術一是在（zài）直流電場的作用下，在（zài）電解（jiě）質溶液（yè）（鍍液）中由陽極和陰極構成回路，電鍍設備的工藝技術一使（shǐ）溶液中的金（jīn）屬離（lí）子沉積到陰極（jí）鍍件表麵上的過程; 電流效率 ：用於沉積金屬的電量占總電量的比（bǐ）稱為電鍍的電流效率。

電鍍設備（bèi）的工藝技術分散能力：一鍍液的分散能力是指一定的電解條件下使沉積金屬在陰極（jí）零件表麵上（shàng）分布均勻的能力。

電鍍設備的工藝技術-合金電鍍：一兩（liǎng）種（zhǒng）或兩種以上金屬離子在（zài）陰極上共沉積形（xíng）成均勻細致鍍層的過（guò）程叫做（zuò）合金電鍍（dù）（一般而言其最小組分應大於（yú）1%。

電鍍（dù）設備的工藝（yì）技（jì）術（shù）整平能力：一整平能力（lì）（即微觀分散能力（lì））是指在金屬表麵上形成鍍層時，鍍液所具有的能使鍍層的微（wēi）觀輪廓比基體表麵更平滑的能力。它表達了基體金屬的粗糙度比（bǐ）較小，波穴的深度小於0.5mm，波（bō）峰（fēng）與波穀的距離很小的表麵上鍍層分布的均勻性。